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微机电系统 mems
采用微制造技术，集微型机构、传感器、执行器等于一体的mems器件，其小体积、集成化、智能化传感系统是未来传感器的发展方向，也是物联网的核心。在万物互联时代高速成长的大趋势下，其发展会受到来自智能硬件、智能汽车、智能工厂等领域的强大助力，并将向环境监测、医疗保健等领域不断扩展，具有十分广阔的前景。在mems领域，naura深硅刻蚀设备已批量销往多家科研机构及生产线，并获得了广泛的认可与好评；卧式lpcvd已成功应用于半导体级碳纳米管生长;并成功研发先进氮化铝薄膜沉积设备及工艺尊龙官方平台的解决方案。
等离子刻蚀设备 etcher
物理气相沉积设备 pvd
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应用于集成电路、功率器件、mems等领域的8寸pvd磁控溅射设备
化学气相沉积设备 cvd
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广泛应用在高附加价值微电子产业，用于sixny（含低应力）、sio2、poly-si等薄膜淀积，满足多种高端成膜需求。
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epee550 是应用于led、power、mems等领域氧化硅sio2、氮化硅sinx、氮氧化硅sion薄膜沉积的pecvd设备。
氧化扩散设备 oxide/diff
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广泛应用在高附加价值微电子产业，用于sixny（含低应力）、sio2、poly-si等薄膜淀积，满足多种高端成膜需求。
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卧式扩散/氧化系统可满足扩散、干/湿氧氧化、退火、合金等多工艺需求，广泛用于ic、power、pv、mems、led等领域。
清洗设备 cleaning tool
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12英寸单片清洗机广泛应用在90nm-28nm 集成电路、先进封装、微机电系统领域。
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全自动湿法腐蚀设备搭载多种先进干燥技术，可实现晶片干进干出。
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手动槽式清洗机功能灵活，配置丰富，操作界面友好，应用广泛。
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手动湿法腐蚀设备尺寸兼容性好，设备稳定性高，腐蚀均匀性好。
辅助设备 facility
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药液供给/回收系统为各研究所、高等院校等提供灵活的客户化定制机台，满足客户需求。
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用于对硅片或其他工件表面进行刻蚀或清洗工艺的需求
气体测量控制 gas measuring control
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cs200系列是可满足半导体、光伏、真空镀膜高端客户的数字式流量测控产品。
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流量显示仪/积算仪是为测控产品提供工作电源、操作控制等的显示仪表。
原子层沉积设备ald
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设备满足科研院所及大专院校对原子层沉积工艺要求；可根据客户需求量身定制硬件升级方案。