先进封装 advanced packaging
智能型手机、物联网等终端产品朝高效能、低成本、低功耗及小面积等产品要求发展,而摩尔定律的推进速度不断放缓,且制程微缩带来的单位成本降低的效益明显下降,使得先进封装技术成为产业发展的新动力。为满足市场需求,新兴的封装技术向集成和晶圆级发展,薄膜重布线技术和通孔技术越来越多的被使用到。在先进封装领域,naura为客户量身打造的ubm/rdl金属沉积设备、tsv金属沉积设备、tsv刻蚀设备及工艺已经实现了在国内主流先进封装企业的批量生产, 并不断获得客户的重复采购订单; 全新descum设备已完成研发并已正式投放市场。
氧化扩散设备 oxide/diff
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theoris 302/flouris 201 立式氧化炉是应用广泛、性能优良、产能突出的氧化成膜设备。
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theoris 302/flouris 201 立式退火炉是在中低温条件下,通入惰性气体(n2),优化硅片界面质量的一种设备。
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theoris 302 /flouris 201 低压化学气相沉积系统是高性能、高产能、低维护成本的专业lpcvd炉管设备。
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theoris 302/flouris 201 立式合金炉是在低温条件下,通入惰性或还原性气体(n2/h2),优化硅片表面的一种设备。