theoris 302 ／flouris 201 立式氧化炉 theoris 302／flouris 201 vertical oxidation furnace -尊龙官方平台

  立式氧化炉(300mm/200mm)是在中高温下通入特定气体（o2/h2/dce），在硅片表面发生氧化反应，生成二氧化硅薄膜的一种设备。生成的二氧化硅薄膜可以作为集成电路器件前道的缓冲介质层、牺牲氧化层和栅氧化层。

  随着集成电路制造工艺要求的提高，特征尺寸不断缩小，对高端集成电路工艺处理设备的需求也越来越强烈。相比较传统炉管设备，立式氧化炉优势：高效生产性能，高精度温度控制性能，良好成膜均匀性能，先进颗粒控制技术，完整的工厂自动化接口等。北方华创立式氧化炉的出现，打破了长久以来的国外垄断局面，推动了国内半导体事业的蓬勃发展，产生了可观的经济效益。