先进封装 advanced packaging
智能型手机、物联网等终端产品朝高效能、低成本、低功耗及小面积等产品要求发展,而摩尔定律的推进速度不断放缓,且制程微缩带来的单位成本降低的效益明显下降,使得先进封装技术成为产业发展的新动力。为满足市场需求,新兴的封装技术向集成和晶圆级发展,薄膜重布线技术和通孔技术越来越多的被使用到。在先进封装领域,naura为客户量身打造的ubm/rdl金属沉积设备、tsv金属沉积设备、tsv刻蚀设备及工艺已经实现了在国内主流先进封装企业的批量生产, 并不断获得客户的重复采购订单; 全新descum设备已完成研发并已正式投放市场。
物理气相沉积设备 pvd
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应用于先进封装、集成电路、功率器件、mems、led等领域的8寸pvd磁控溅射设备
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晶圆级3d先进封装领域中的硅通孔阻挡层、籽晶层薄膜沉积工艺,可实现铜、钛、钽、铝等薄膜沉积。
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晶圆级先进封装领域的fan-out、cis、gold bump、copper pillar等相关的 rdl、ubm薄膜沉积工艺。