磁控溅射技术属于pvd（物理气相沉积）技术的一种，是制备薄膜材料的重要方法之一。它是利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向被溅射的物质制成的靶电极（阴极），并将靶材原子溅射出来使其沿着一定的方向运动到衬底并在衬底上沉积成膜的方法。磁控溅射设备使得镀膜厚度及均匀性可控，且制备的薄膜致密性好、粘结力强及纯净度高，该技术已经成为制备各种功能薄膜的重要手段。
通过不断突破包括溅射源设计、等离子产生与控制、颗粒控制、腔室设计与仿真模拟、软件控制等在内的多项关键技术，北方华创建立起了核心技术优势，设备应用跨越多个技术代，代表着国产集成电路薄膜制备工艺设备的较高水平。此外，北方华创pvd设备技术也延伸应用于先进封装、半导体照明等领域，多款pvd产品均已实现产业化应用。
