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polaris series

8/12英寸通用物理气相沉积系统

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polaris series 8/12英寸通用物理气相沉积系统
polaris series 8/12 inch pvd system
polaris系列pvd系统主要由大气平台,真空传输平台,去气腔室(degas),预清洁腔室和工艺腔室组成,设备采用cluster tool结构,可配置多个工艺腔室、预清洗腔室和去气腔室,适合封装领域薄膜制备大规模生产。polaris系列pvd为全自动大产能设备,具有反应腔自动开闭盖、晶圆自动传输、工艺去气、晶圆表面预清洁、薄膜沉积完全自动化等特点。
设备特点
  • 专业的磁控溅射源和腔室结构的设计有效提高靶材利用率
  • 灵活的腔室配置,8/12英寸兼容
  • 稳定的传输系统,兼容玻璃片、翘曲片、键合片等多种类型基片传输
  • 稳定并且低的rc表现,良好的颗粒和应力控制能力
  • 优化的工艺流程带来大产能表现,低运营成本
产品应用
  • 晶圆尺寸
    8/12英寸兼容
  • 适用材料
    铜、钛、氮化钛、钽、氮化钽、钨化钛、金、铝等
  • 适用工艺
    晶圆级先进封装中的ubm金属溅射、重布线
  • 适用领域
    先进封装、硅基微型显示
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