备品备件 parts -尊龙官方平台
menu
尊龙官方平台-凯时app官网首页
|
en
home
about us
news
products & services
innovation
investor relations
careers
chairman's message
leadership
history
industry position
awards
corporate culture
social responsibility
worldwide
compliance statement
press releases
industry news
semiconductor
vacuum tech
new energy
precision components
services
customer's advice
download center
innovation
q&a
stock information
events
communication
welcome
join us
benefits
training
development
platform
product & services
home
>
products & services
>
semiconductor
>
备品备件 parts
products & services
products & services
集成电路 ic
等离子刻蚀设备 etcher
物理气相沉积设备 pvd
化学气相沉积设备 cvd
氧化扩散设备 oxide/diff
清洗设备 cleaning tool
辅助设备 facility
气体测量控制 gas measuring control
原子层沉积设备ald
光伏电池 photovoltaic
化学气相沉积设备 cvd
氧化扩散设备 oxide/diff
清洗设备 cleaning tool
辅助设备 facility
气体测量控制 gas measuring control
先进封装 advanced packaging
等离子刻蚀设备 etcher
物理气相沉积设备 pvd
化学气相沉积设备 cvd
氧化扩散设备 oxide/diff
清洗设备 cleaning tool
辅助设备 facility
气体测量控制 gas measuring control
原子层沉积设备ald
科研设备 scientific equipment
等离子刻蚀设备 etcher
物理气相沉积设备 pvd
辅助设备 facility
气体测量控制 gas measuring control
微机电系统 mems
等离子刻蚀设备 etcher
物理气相沉积设备 pvd
化学气相沉积设备 cvd
氧化扩散设备 oxide/diff
清洗设备 cleaning tool
辅助设备 facility
气体测量控制 gas measuring control
原子层沉积设备ald
真空镀膜 vacuum coating
气体测量控制 gas measuring control
半导体照明 led
等离子刻蚀设备 etcher
物理气相沉积设备 pvd
化学气相沉积设备 cvd
清洗设备 cleaning tool
辅助设备 facility
气体测量控制 gas measuring control
原子层沉积设备ald
分析仪器 analysis instrument
气体测量控制 gas measuring control
功率器件 power devices
等离子刻蚀设备 etcher
物理气相沉积设备 pvd
化学气相沉积设备 cvd
氧化扩散设备 oxide/diff
清洗设备 cleaning tool
辅助设备 facility
气体测量控制 gas measuring control
原子层沉积设备ald
节能环保 energy saving
辅助设备 facility
气体测量控制 gas measuring control
平板显示 fpd
清洗设备 cleaning tool
紫外固化设备 uv cure
辅助设备 facility
气体测量控制 gas measuring control
光通信器件 optical information devices
气体测量控制 gas measuring control
燃料电池 fc
气体测量控制 gas measuring control
备品备件 parts
气体测量控制 gas measuring control
备品备件 parts
化合物半导体 compound semi
客户服务 services
备品备件 parts
北方华创微电子可以为泛半导体领域的客户提供适用于4"~12"不同规格半导体装备的备品备件,这些备品备件可以分别应用于刻蚀机(etch)、物理气相沉积(pvd)、化学气相沉积(cvd)、离子注入(imp)、炉管(furnace)等半导体设备。
网站地图