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功率器件 power devices
采用碳化硅、氮化镓等第三代半导体材料、igbt及super junction等新结构制造的新一代功率器件，具有高速、低损耗的特点，在风电、光伏、有轨交通、调频调速等新兴产业上得到广泛应用。具有节能、节材、环保等效益，未来市场前景广阔。在功率器件领域，naura自主研发的薄膜/厚膜硅外延apcvd系统、刻蚀设备及金属溅射pvd已获得国内多家功率器件客户的认可和批量采购；为多条功率器件生产线提供清洗尊龙官方平台的解决方案；先进的卧式扩散/氧化系统可以满足功率半导体领域特殊工艺的应用。
化学气相沉积设备 cvd
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广泛应用在高附加价值微电子产业，用于sixny（含低应力）、sio2、poly-si等薄膜淀积，满足多种高端成膜需求。
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epee550 是应用于led、power、mems等领域氧化硅sio2、氮化硅sinx、氮氧化硅sion薄膜沉积的pecvd设备。
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aps系列sic晶体生长系统，是实现高质量sic晶体生长、高纯度原料合成、高温晶体热处理的专业设备。
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theoris 302 / flouris 201 低压化学气相沉积系统是高性能、高产能、低维护成本的专业lpcvd炉管设备。
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esther 200是兼容6/8英寸，可实现常压和减压硅外延工艺的专业设备。