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集成电路 ic
集成电路作为信息产业的基础及核心，是关系国民经济和社会发展全局的基础性、先导性和战略性产业，已成为拉动电子工业迈向数字时代的强大引擎。国际上也以其技术水平作为衡量国家综合国力的重要标志之一。集成电路制造领域，naura厚积薄发，自主研发了国内应用于先进制程的等离子硅刻蚀机，已正式进入客户生产线；应用于28nm制程的hardmask pvd设备，已成为国内主流芯片代工厂的baseline设备，并成功进入国际供应链体系，代表着国产集成电路工艺设备的较高水平；单片清洗机、立式氧化炉、单片退火系统、al pad pvd等设备也均进入主流代工厂，实现批量销售。
氧化扩散设备 oxide/diff
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theoris 302／flouris 201 立式氧化炉是应用广泛、性能优良、产能突出的氧化成膜设备。
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theoris 302／flouris 201 立式退火炉是在中低温条件下，通入惰性气体（n2），优化硅片界面质量的一种设备。
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theoris 302 ／flouris 201 低压化学气相沉积系统是高性能、高产能、低维护成本的专业lpcvd炉管设备。
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theoris 302／flouris 201 立式合金炉是在低温条件下，通入惰性或还原性气体（n2/h2），优化硅片表面的一种设备。
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广泛应用在高附加价值微电子产业，用于sixny（含低应力）、sio2、poly-si等薄膜淀积，满足多种高端成膜需求。
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卧式扩散/氧化系统可满足扩散、干/湿氧氧化、退火、合金等多工艺需求，广泛用于ic、power、pv、mems、led等领域。