半导体照明 led
采用氮化镓基发光二极管作为光源的半导体照明技术,以其节能、高效、寿命长等优点被广泛应用于照明、大屏幕显示、指示灯、背光源等领域,其技术发展迅速、应用领域广泛、产业带动性强、节能潜力大,被公认为具有发展前景的高效照明产业。在led领域,icp刻蚀机自面市以来已经实现了两百台的销售突破,其中gan刻蚀机新增市占率超过80%,成为行业标杆机型;自主开发的应用于led制程的aln缓冲层沉积设备,引领led领域技术发展,凭借其优越的性能,成为客户信赖的技术创新产品。
物理气相沉积设备 pvd
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用于制备具有优异的导电性和高的可见光透过率的ito电流扩展层,可有效提升led芯片的光电性能。
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应用于先进封装、集成电路、功率器件、mems、led等领域的8寸pvd磁控溅射设备
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aln缓冲层的加入,可以有效提升led器件的光电性能、提高mo设备产能和降低生产成本。