semiconductor
gse c200系列等离子刻蚀机 gse c200 series plasma etcher
gse c200系列单片刻蚀机采用超高密度等立体源,刻蚀速率高、均匀性好,颗粒控制能力优异,易维护,性能稳定。其在gan、sic、sio2、al2o3等材料的刻蚀上性能优异、工艺窗口宽,易于同相关工艺整合。
本刻蚀机已在多条产线验证成功,积累了丰富的刻蚀经验,能提高gan和sic功率器件的性能,同时保证性价比。
本刻蚀机已在多条产线验证成功,积累了丰富的刻蚀经验,能提高gan和sic功率器件的性能,同时保证性价比。
应用领域:
功率半导体、失效分析、光通信器件
适用工艺:
- gan power器件gan低速低损伤栅槽刻蚀
- gaas vcsel器件台面刻蚀
- gaas hbt/phemt 台面和背孔刻蚀
- inp光栅和波导刻蚀
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