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horis l12

管式低压化学气相沉积设备

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horis l12 管式低压化学气相沉积设备
horis l12 lpcvd system
horis l12系列管式lpcvd主要用于156mm及以上的topcon光伏高效电池的超薄隧穿氧化层和poly薄膜工艺,该设备为多管结构,每管可单独工艺。设备主要包括上下料系统、反应室系统、真空控制系统、加热系统、水平传输系统、电气控制系统等部件组成。主要的工艺模块是用于电池背面形成载流子选择性通过的隧穿氧化层,有助于提高电池开压,达到提升电池效率的目的。
设备特点
  • 多路进气方式以及前后双匀流设计保证高质量薄膜工艺均匀性
  • 高强度石英舟结构和双层密封反应腔室保障低运营成本,实现超高设备稼动率
  • 超大承载机构设计以及专项升级的抓取机构
  • 采用先进的闭环压控系统,确保成膜速度和均匀性
  • 具备多种镀膜技术,如多层复合膜、掺杂多晶硅技术
产品应用
  • 适用硅片尺寸
    156mm~230mm
  • 装片量
    1300~2860(单槽双插)片 / 管
  • 单机台管数
    5、6、10、12 管 / 系统
  • 工艺种类
    氧化硅、多晶硅、掺磷多晶硅、掺硼多晶硅
  • 温度范围
    600~1000℃
  • 适用领域
    新能源光伏
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