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horis p12

管式等离子体增强型化学气相沉积设备

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horis p12 管式等离子体增强型化学气相沉积设备
horis p12 pecvd system
horis p12 pecvd系统主要用于156mm及以上的光伏电池的镀膜工艺,该设备为多管结构,每管可单独工艺。设备主要包括自动上下料系统、反应室系统、真空控制系统、加热系统、水平传输系统、电气控制系统等部件,工艺模块主要用于电池减反钝化层、钝化层、poly层及掺杂元素的制备。
设备特点
  • 配备自动上下料系统,成熟的mes接口经验
  • 高精度控温,在线工艺调整,工艺结果一致性和稳定性高
  • 多预警功能,提升维护性和安全性
  • 石墨舟预订管理系统,实现舟精准管理
  • 具备多种快速、高质量镀膜技术,如多层复合膜/poly层等
产品应用
  • 适用硅片尺寸
    156mm~230mm
  • 装片量
    432~780 片/舟
  • 单机台管数
    5、6、10、12 管/系统
  • 工艺种类
    氮化硅、氧化硅、氧化铝、poly、掺杂、退火等
  • 温度范围
    150~650℃
  • 适用领域
    新能源光伏
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