![](/uploads/image/epui20170228/14882642347cc1380fb44c2ad2.jpg)
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广泛应用在高附加价值微电子产业,用于sixny(含低应力)、sio2、poly-si等薄膜淀积,满足多种高端成膜需求。
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theoris 302 / flouris 201 低压化学气相沉积系统是高性能、高产能、低维护成本的专业lpcvd炉管设备。
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esther 200是兼容6/8英寸,可实现常压和减压硅外延工艺的专业设备。
![](/uploads/image/epui20170302/148847001538d8f7b4eb697967.jpg)
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适用于光伏领域sinx、siox、sionx、alox薄膜淀积。单台产能大于160mw,工艺效果优异。具备快速镀膜功能
![](/uploads/image/epui20170302/1488469954944ecd93e8eec2af.jpg)
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theoris 302 / flouris 201 低压化学气相沉积系统是高性能、高产能、低维护成本的专业lpcvd炉管设备。
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广泛应用在高附加价值微电子产业,用于sixny(含低应力)、sio2、poly-si等薄膜淀积,满足多种高端成膜需求。
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epee550 是应用于led、power、mems等领域氧化硅sio2、氮化硅sinx、氮氧化硅sion薄膜沉积的pecvd设备。
![](/uploads/image/epui20170302/1488469883a549dc51a717e234.jpg)
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epee550 是应用于led、power、mems等领域氧化硅sio2、氮化硅sinx、氮氧化硅sion薄膜沉积的pecvd设备。
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epee i800 pecvd系统,是实现led领域pss复合衬底sio2厚膜工艺高速沉积的专业镀膜设备。
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aps系列sic晶体生长系统,是实现高质量sic晶体生长、高纯度原料合成、高温晶体热处理的专业设备。
![](/uploads/image/epui20170302/1488469910207777e969bcc86c.jpg)
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广泛应用在高附加价值微电子产业,用于sixny(含低应力)、sio2、poly-si等薄膜淀积,满足多种高端成膜需求。
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epee550 是应用于led、power、mems等领域氧化硅sio2、氮化硅sinx、氮氧化硅sion薄膜沉积的pecvd设备。
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aps系列sic晶体生长系统,是实现高质量sic晶体生长、高纯度原料合成、高温晶体热处理的专业设备。
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theoris 302 / flouris 201 低压化学气相沉积系统是高性能、高产能、低维护成本的专业lpcvd炉管设备。
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esther 200是兼容6/8英寸,可实现常压和减压硅外延工艺的专业设备。