化学气相沉积设备 cvd -尊龙官方平台

广泛应用在高附加价值微电子产业，用于sixny（含低应力）、sio2、poly-si等薄膜淀积，满足多种高端成膜需求。

ses680a是一款常压硅外延设备，6/8寸兼容、工艺性能优异、连续生产稳定。

theoris 302 / flouris 201 低压化学气相沉积系统是高性能、高产能、低维护成本的专业lpcvd炉管设备。

esther 200是兼容6/8英寸，可实现常压和减压硅外延工艺的专业设备。

适用于光伏领域sinx、siox、sionx、alox薄膜淀积。单台产能大于160mw，工艺效果优异。具备快速镀膜功能

theoris 302 / flouris 201 低压化学气相沉积系统是高性能、高产能、低维护成本的专业lpcvd炉管设备。

广泛应用在高附加价值微电子产业，用于sixny（含低应力）、sio2、poly-si等薄膜淀积，满足多种高端成膜需求。

epee550 是应用于led、power、mems等领域氧化硅sio2、氮化硅sinx、氮氧化硅sion薄膜沉积的pecvd设备。

epee550 是应用于led、power、mems等领域氧化硅sio2、氮化硅sinx、氮氧化硅sion薄膜沉积的pecvd设备。

epee i800 pecvd系统，是实现led领域pss复合衬底sio2厚膜工艺高速沉积的专业镀膜设备。

aps系列sic晶体生长系统，是实现高质量sic晶体生长、高纯度原料合成、高温晶体热处理的专业设备。

广泛应用在高附加价值微电子产业，用于sixny（含低应力）、sio2、poly-si等薄膜淀积，满足多种高端成膜需求。

ses680a是一款常压硅外延设备，6/8寸兼容、工艺性能优异、连续生产稳定。

epee550 是应用于led、power、mems等领域氧化硅sio2、氮化硅sinx、氮氧化硅sion薄膜沉积的pecvd设备。

aps系列sic晶体生长系统，是实现高质量sic晶体生长、高纯度原料合成、高温晶体热处理的专业设备。

theoris 302 / flouris 201 低压化学气相沉积系统是高性能、高产能、低维护成本的专业lpcvd炉管设备。

esther 200是兼容6/8英寸，可实现常压和减压硅外延工艺的专业设备。