化学气相沉积设备 cvd
化学气相沉积(cvd)技术是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术。在典型的cvd工艺过程中,把一种或多种蒸汽源原子或分子引入腔室中,在外部能量作用下发生化学反应并在衬底表面形成需要的薄膜。由于cvd技术具有成膜范围广、重现性好等优点,被广泛用于多种不同形态的成膜。北方华创微电子凭借十余年的微电子领域高端工艺设备开发经验,致力于为集成电路、半导体照明、微机电系统、功率半导体、化合物半导体、新能源光伏等领域提供各种类型的cvd设备,满足客户多种制造工艺需求。北方华创微电子开发的卧式pecvd 已成功进入海外市场,为多家国际先进光伏制造厂提供尊龙官方平台的解决方案。而硅外延设备在感应加热高温控制技术、气流场、温度场模拟仿真技术等方面取得了重大的突破,达成了优秀的外延工艺结果,获得多家国内主流生产线批量采购。面向led领域介质膜沉积的pecvd设备,凭借优秀的工艺性能和产能优势,已成为led客户扩产优选设备。
先进封装 advanced packaging
![](/uploads/image/epui20170302/1488469954944ecd93e8eec2af.jpg)
-
theoris 302 / flouris 201 低压化学气相沉积系统是高性能、高产能、低维护成本的专业lpcvd炉管设备。