semiconductor
epee550 等离子化学气相沉积系统 epee550 pecvd system
epee550
pecvd是led芯片和复合衬底制程的关键设备之一,广泛应用于led蓝绿光和红黄光器件的sio、sinx介质膜沉积,以及pss复合衬底sio厚膜的高速沉积。通过4寸19片载盘、大功率在线等离子清洗、高均匀性控制、高低速率调控等专有设计,产品已被led客户广泛接受并大规模量产,是led领域客户扩产优选设备。同时该设备支持高均匀性、低应力sinx薄膜沉积,可应用于第三代半导体功率器件的研发及量产。
应用领域:
led照明,功率半导体,微机电系统
适用工艺:
led领域sio2、sinx、sion薄膜
power领域sinx薄膜