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真空装备 vacuum tech

vvk50.55

连续渗硅炉

vvk50.55 连续渗硅炉

vvk50.55 continuous silicon infiltration furnace

连续渗硅炉用于碳碳材料的高温渗硅处理工艺。设备由加热腔室、过渡腔室、冷却腔室、物料传输系统、快冷系统、真空系统、气路系统、控制系统等组成。

设备特点

连续生产
单位产品能耗低
产品一致性好

技术指标

炉内工作区截面尺寸
500×550mm（宽×高）
工作温度
1700℃
冷态极限真空度
10pa
热态极限真空度
80pa
压升率
10 pa/h

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