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hse d300

等离子体切割刻蚀机

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hse d300 等离子体切割刻蚀机
hse d300 plasma dicing etcher
hse d300为高密度等离子体刻蚀机,适用于6/8/12英寸硅等离子切割工艺。具备高刻蚀速率、高刻蚀均一性和角度控制能力、低颗粒控制等性能优势。该设备易维护、性能稳定、客户拥有成本低,现已广泛应用于先进封装领域的等离子切割工艺。
设备特点
  • 更高的芯片切割效率(并行切割)
  • 更优的颗粒及良率表现,无损伤切割
  • frame/wafer,dag/dbg均可兼容
  • 适用不同尺寸的die及大量die的切割
产品应用
  • 晶圆尺寸
    380mm frame及以下
  • 适用材料
  • 适用工艺
    深硅等离子切割
  • 适用领域
    先进封装
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