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gse v200 高精度刻蚀机
gse v200 high precision etcher
- 设备特点
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- 用于gan功率器件、gan射频器件、gan显示器件的刻蚀设备
- 低损伤高精度刻蚀,兼容ale功能
- 可调节的等离子体源设计,宽阔的工艺窗口
- 专业的结构设计,优良的刻蚀均匀性
- 产品应用
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- 晶圆尺寸8英寸及以下
- 适用材料氮化镓、氧化硅/氧化钛、砷化镓、磷化镓、铝镓铟磷、氮化硅、钨化钛、有机物等
- 适用工艺多种材料刻蚀工艺
- 适用领域化合物半导体、micro led、科研领域
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