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flvp850/1100

立式连续型pvd镀膜设备

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flvp850/1100 立式连续型pvd镀膜设备
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flvp系列产品阴极均竖直安装,产品装夹在载板上从阴极处连续通过。设备由多组模块化真空腔室组成,腔室内可配置铠装或红外加热、阳极层离子源或弧光离子源、直流溅射磁控阴极、反应溅射磁控阴极、阴极电弧等不同技术部件,实现金属、金属化合物以及碳系涂层的制备。
设备特点
  • 技术组合灵活,可适用金属、金属化合物、碳系涂层
  • 腔室模块化设计,易拓展,产能配置大小可调
  • 双面同时镀膜,提高涂层制备效率
  • 设备内多重洁净防护,维护更换便捷
  • 可拓展配套自动化,及智能工厂
技术指标
  • 基材尺寸
    有效高度850/1100/1500mm
  • 基材厚度
    ≥0.1mm
  • 年产能
    氢能双极板150-500万片
  • 走速范围
    30-1000mm/min
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