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半导体装备 semiconductor

eris e120r

8英寸单片减压硅外延系统

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eris e120r 8英寸单片减压硅外延系统
eris e120r 8 inch single wafer reduced pressure silicon epitaxy system
eris e120r主要用于埋层外延、选择性外延 、多晶外延等多种特色工艺的运行。该设备主要由传输系统模块、工艺腔室模块、压力控制模块等组成。精准的压力及专业设计的气流场与温场保证了外延片良好的工艺性能,保证成膜质量。传输模块可兼容多种晶圆尺寸,同时满足多种类的工艺需求。
设备特点
  • 单工艺腔,占地面积小,操作简单
  • 专业的气流场和温度场设计,获得良好的工艺性能
  • 高精度的压力控制系统,保证成膜质量
  • 友好的人机交互和全面的安全性设计,保障系统稳定、安全、高效
产品应用
  • 晶圆尺寸
    6、8英寸
  • 适用材料
  • 适用工艺
    埋层外延、选择性外延 、多晶外延
  • 适用领域
    集成电路、功率半导体、衬底材料、科研领域
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