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esther e320a 8英寸单片常压硅外延系统
esther e320a 8 inch single wafer atmospheric pressure silicon epitaxy system
- 设备特点
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- 先进的红外加热控制技术和加热模块设计,有效提高成膜质量
- 专业的传输系统和工艺模块设计,可兼容多种工艺用途
- 友好的人机交互和安全性设计,保障系统稳定、安全、高效
- 具有单腔和多腔两种机型,可满足不同客户需求
- 产品应用
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- 晶圆尺寸5、6、8英寸
- 适用材料硅
- 适用工艺n&p常压硅外延
- 适用领域功率半导体、衬底材料、科研领域
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