ses系列硅外延系统为单腔多片式硅外延设备，适用于4、5、6、8英寸的硅外延工艺。ses系列反应腔室采用多片平板式的结构，配合感应加热的方式实现高质量的外延薄膜生长，适用于厚度5-150µm范围的外延工艺，精确可调n型、p型掺杂。该设备智能化人机交互设计与高效的安全互锁保障了系统安全和稳定。
