nmc 612c应用于12英寸干法刻蚀工艺，深耕集成电路、功率半导体等领域，已在客户端稳定量产超过十年。主要应用为浅沟槽隔离刻蚀、栅极刻蚀、侧墙刻蚀等工艺，具有丰富的工艺调试手段、较高的刻蚀均匀性以及量产稳定性。
