semiconductor
nmc612g 12英寸刻蚀机 nmc612g 12 inch etcher
nmc612g设备是针对nmc612g 12英寸刻蚀机是电感耦合高密度等离子体干法刻蚀机,主要用于ic集成电路领域的金属铝刻蚀工艺,以及micro oled领域金属和非金属刻蚀工艺。该产品为多腔室集群设备(cluster tool),能够进行全自动串行及并行工艺处理。系统主要由传输模块(transfer module)、刻蚀工艺模块(etch process module)、去胶模块(strip process module)、电源柜(remote ac power rack)等组成,其中刻蚀工艺模块用于进行金属或非金属刻蚀工艺,去胶模块用于去除金属刻蚀后的残余光刻胶,传输模块用于把晶片安全而准确地传送到指定工位,电源柜用于为系统提供电源。nmc612g刻蚀机提供多种均匀性调试手段,提升工艺均匀性水平。
应用领域:
集成电路领域
适用工艺:
al etch、多晶硅刻蚀、介质刻蚀、al/mo/ito等金属刻蚀。