nmc508c 8英寸等离子刻蚀机是电感耦合高密度等离子体干法刻蚀机,主要用于200mm硅片的多晶硅硅栅(poly gate)、浅沟槽隔离(sti)和硅的金属钨化物(wsix)刻蚀。nmc508c为多腔室集群设备(cluster tool),它是一个全自动化的,能够进行串行或并行工艺处理的刻蚀系统。该系统主要由工艺模块(process module)、传输模块(transport module)、电源柜(remote ac power rack)和控制柜(control rack)组成,其中工艺模块用于为硅片进行工艺提供环境,传输模块用于把硅片安全而准确地传送到指定工位,电源柜用于为系统提供电源,...
nmc508c 8英寸等离子刻蚀机是电感耦合高密度等离子体干法刻蚀机,主要用于200mm硅片的多晶硅硅栅(poly gate)、浅沟槽隔离(sti)和硅的金属钨化物(wsix)刻蚀。nmc508c为多腔室集群设备(cluster tool),它是一个全自动化的,能够进行串行或并行工艺处理的刻蚀系统。该系统主要由工艺模块(process module)、传输模块(transport module)、电源柜(remote ac power rack)和控制柜(control rack)组成,其中工艺模块用于为硅片进行工艺提供环境,传输模块用于把硅片安全而准确地传送到指定工位,电源柜用于为系统提供电源,控制柜是设备整体的控制核心,负责协调调度各个模块的运转。目前nmc508系列干法刻蚀机有20多个chamber在客户处稳定量产,量产超过十年,产量超过百万片, 颗粒水平(defect) ,稳定性(stability), 重复性(repeatability), 良率(cp yield),正常运行时间(up time),平均清洗间隔时间(mtbc)均优于或和竞争对手相当。